La conférence de lithographie la plus importante pour l’industrie du semiconducteur

POLLEN exposera et présentera deux articles lors de la conférence SPIE Advanced Lithography du 25 février au 1er mars 2018. La conférence de lithographie la plus importante pour l’industrie des semi-conducteurs de l’année. Venez nous rendre visite au stand 312 pendant le salon du 27 au 28 février.
Paper #1 – Oral : Automated lamellar block copolymer process characterization – Paper 10586-35 on Wednesday February 28 Time: 4:20 PM – 4:40 PM in session 11 of Advances in Patterning Materials and Processes Conference
Paper #2 – Poster : Cognitive learning: a machine learning approach for automatic process characterization from design – Paper 10585-95 on Wednesday February 28 Time: 5:30 PM – 7:30 PM

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