POLLEN à la conférence SPIE Advanced Lithography à San José

POLLEN Metrology présent à la conférence SPIE Advanced Lithography qui démarre demain à San Jose (CA). N’hésitez pas à nous rendre visite lors de la présentation de notre poster le mercredi 24 intitulé: « Next-generation of metrology software platform dedicated to nanopatterns: application to semiconductor industry ». Nous présenterons notre nouvelle plateforme logicielle dédiée à la métrologie intelligente (Smart Metrology) afin de répondre au besoin récurrent de métrologie juste, rapide et fiable pour l’industrie du semiconducteur. Dans ce papier, nous présenterons des résultats obtenus sur des structures qui s’auto-assemblent (Direct Self Assemble ou DSA), une des technologies les plus prometteuses pour la lithographie avancée. Ce travail applicatif a été réalisé en partenariat avec l’IMEC (Institut de microélectronique et composants à Louvain en Belgique), centre de R&D en Microélectronique le plus avancé en Europe.

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